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    DWL66+

    DWL66+激光光刻系統是一個經濟的,高分辨率模式發生器為低容量掩模制造和直寫。這個系統的靈活性和功能讓最終的光刻研究工具用于微電子機械系統,生物微機電,微光學,專用集成電路,微流體,傳感器,計算機全息技術,還有其他的微型機構的應用。用DWL66+的客戶在世界范圍內包含了超過150個領先的大學和研究設備處。這個系統的很多功能一直在與這些機構進行密切的合作開發。

    重要特征選項

    最大基板尺寸9x  9

    最小描繪尺寸0.6um

    最小描繪網格10nm

    先進的灰度曝光模式

    實時的自動對焦系統

    客戶特定激光

    矢量和柵格曝光模式

    可交換的寫模式

    攝像系統計量和校準

    前后面對齊

    人工氣候室

    多種數據輸入格式

    用戶編程接口

    技術參數

    寫入模式

    1

    2

    3

    4

    5

    6

    地址網格(nm)

    10

    20

    25

    50

    100

    200

    最小結構大?。╱m)

    0.6

    0.8

    1

    2

    4

    7

    寫速度(mm^2/min)

    6

    25

    39

    145

    500

    1000

    邊緣粗糙度(3σ,nm)

    50

    70

    80

    110

    160

    240

    線寬均勻度(3σ,nm)

    60

    80

    100

    180

    250

    500

    線條測量精度(3σ,nm)

    100

    120

    150

    250

    400

    800

    ?

    總共找到3個商品
    DWL66+  
    DWL66+
    DWL66+激光光刻系統是一個經濟的,高分辨率模式發生器為低容量掩模制造和直寫。這個系統的靈活性和功能讓最終的光刻研究工具用于微電子機械系統,生物微機電,微光學,專用集成電路,微流體,傳感器,計算機全息技術,還有其他的微型機構的應用。用DWL66+的客戶在世界范圍內包含了超過150個領先的大學和研究設備處。這個系統的很多功能一直在與這些機構進行密切的合作開發。
    uPG 101  
    uPG 101
    uPG 101 是很經濟,容易去用微型發生器進行直寫應用和低容量掩模制作的一個系統。這個系統可運用的應用有,微電子機械系統、生物微系統、集成光學、微流道或者其他需要高分辨率的微型系統。他的面積很小只有60*1875px^2,獨特的緊湊結構,使得所有的電子分量都可以完整的包含在這個系統中。個人電腦可以用來控制這個系統,這個基于操作軟件的圖形用戶界面使用戶更容易去進行設計,生成目錄,自動對準和生成曝光。
    MLA 100 無掩模光刻儀  
    MLA 100 無掩模光刻儀
    MLA100的應用領域包括生命科學,微機電系統,微光學,半導體,傳感器,執行器,微光機電系統,材料研究,納米管,石墨烯,這任何一項應用都需要微光顯示結構。
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